DUV(深紫外光)和EUV(极紫外光)是半导体制造中用于光刻的两种光源技术,它们在波长、应用范围和工艺要求上有显著差异。
总体来看,DUV适用于当前主流芯片制造,而EUV则是未来高端芯片制造的关键技术。