光刻机是芯片制造中的核心设备，主要用于将电路图案转移到硅片上。其工作原理基于光学投影和化学蚀刻技术。
总结：
光刻机通过光源（如极紫外光）照射掩膜版，将电路图案投影到涂有光刻胶的硅片上，再通过显影和蚀刻工艺形成微小结构。
| 项目 | 内容说明 |
| 光源 | 极紫外光（EUV）或深紫外光（DUV） |
| 掩膜版 | 含有电路图案的透明玻璃板 |
| 光刻胶 | 对光敏感的化学材料，用于记录图案 |
| 投影系统 | 将掩膜版图像缩小并清晰投射到硅片上 |
| 显影 | 去除被曝光或未被曝光的光刻胶 |
| 蚀刻 | 根据光刻胶保护层进行材料去除或沉积 |
光刻机的技术水平直接影响芯片的精度与性能。
